应用领域
应用于光学元件、晶体及金属和玻璃材料的研磨抛光，也可用来研磨抛光特殊材料 ，诸如硅、硒化锌、砷化镓的后道抛光。
白色阻尼布抛光垫：
具有极佳的相互连接的微孔结构，在进行粗抛光处理时能具备优异的去除率、抛光稳定性和耐磨性。可配合研磨抛光液系列产品配套使用，用于对陶瓷、砷化镓、磷化铟、硬盘、光学玻璃、金属制品、蓝宝石衬底晶片、碳化硅晶片等材质或工件的粗抛或中抛，以获得没有缺陷的晶片表面。
外观
白色
形状
圆形
厚度
T0.5-3.0mm
邵氏硬度（A）
70-95±2
刻槽
T&U型槽 10-20mm
槽深
0.8±0.2mm
槽宽
1.8±0.2mm
密度
0.47±0.03g/mm³
内粘结力
2800（gf/20mm）
外粘结力
2600（gf/20mm）
延展率（压缩比）
6.3±3%
背胶
3M进口PET双面胶
常用规格
Φ127/Φ180/Φ610/Φ710/Φ820/Φ920/Φ980/Φ1100-Φ1280mm
白色抛光皮的优势：
1）去除率高，质量稳定，耐磨性好；
2）具有中柔软度和弹性，能有效避免划伤；
3）表面绒毛间隙可以储存大量的抛光液，提高抛光效率；
4）背胶易撕，不留残胶，使用方便。
使用说明：
1. 撕离抛光皮背面离型纸，将抛光皮均匀贴附于机台操作面，注意不要留有气泡；
2. 配合氧化铝或氧化硅系列研磨液使用；
3. 每次使用完毕请及时用清水清洁。
黑色阻尼布抛光垫
具有极佳的相互连接的微孔结构，在进行抛光处理时能具备优异的抛光稳定性/耐磨性。可配合研磨抛光液系列产品配套使用，适用于晶片、蓝宝石、石英、玻璃、金属、陶瓷的高平坦化超精密抛光，抛光后精度可达0.0002，可至完美的镜面效果。
外观
黑色
形状
圆形
厚度
T0.5-3.0mm
邵氏硬度（A）
70-90±2
刻槽
开槽 0.5-20mm
槽深
0.5±0.2mm
槽宽
1.8±0.2mm
密度
0.60±0.05g/mm³
内粘结力
2800（gf/20mm）
外粘结力
2600（gf/20mm）
延展率（压缩比）
6.3±3%
背胶
3M进口PET双面胶
常用规格
Φ127/Φ180/Φ610/Φ710/Φ820/Φ920/Φ980/Φ1100-Φ1280mm
黑色抛光皮的优势：
1）质量稳定，耐磨性好；
2）具有良好的柔软度和弹性，能有效避免划伤；
3）表面绒毛间隙可以储存大量的抛光液，提高抛光效率；
4）背胶易撕，不留残胶，使用方便。
使用说明：
1. 撕离抛光皮背面离型纸，将抛光皮均匀贴附于机台操作面，注意不要留有气泡；
2. 配合氧化铝或氧化硅系列研磨液使用；
3. 每次使用完毕请及时用清水清洁。
